FA Device Solutions for Semiconductor Manufacturing
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半導体洗浄装置向けFAソリューション
半導体洗浄装置は、ウェーハ表面に付着した微粒子や金属、有機物などの汚染物質を、薬液や純水などで除去する装置です。
本ページでは、薬液環境におけるウェーハの有無・傾き・着座検出、静電気対策、
漏液・液面検出などの課題に対応するセンサ・FA機器をご紹介します。

アプリケーション
狭小スペースの有無検出

課 題
装置内部の限られたスペースでは、センサの設置場所が制約され、ワークの有無検出が難しくなります。
ご提案
超小型光電センサEX-Z シリーズなら狭いスペースにもすっきり設置。装置の小型化を妨げることなく、ワークの有無を安定して検出します。
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ウェーハ傾き検出

課 題
洗浄チャンバ内での着座ピンへの乗り上げやウェーハの傾きを、ビューポート越しに検出したい。
ご提案
レーザならではの優れた指向性と視認性により、ビューポート越しでもウェーハの傾きを高精度に検出。EX-L200は超小型サイズで設置しやすく、安全なクラス1レーザを採用しています。
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洗浄ユニットのウェーハ有無検出

課 題
薬液がかかる環境下で、ウェーハの有無を安定して検出したい。
ご提案
耐薬品ファイバ FT-L80Y/FT-V80Y/FT-Z802Yは、フルプロテクト構造のメタルレスタイプ。IP68Gの保護構造により、さまざまな薬液環境で使用できます。
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パルプ開閉ピン検出

課題
高スループット化が求められる中、IPAによる蒸気乾燥など、耐熱性が求められる環境では光電センサの使用が難しい。
ご提案
ヘッド部に電気部品を内蔵しないコの字型ファイバセンサにより、耐熱性が求められる環境での検出に対応。通常環境にはPM-25/65/45シリーズをラインアップしています。
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ウェーハ搬送時の除電対策

課 題
ウェーハの帯電は異物付着や静電破壊の原因となるため、確実な除電と帯電状態の管理が求められます。
ご提案
イオナイザでウェーハを除電し、表面電位センサで帯電量を常時モニタリング。除電効果を見える化し、安定した静電気対策を実現します。
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- ER-X Series 〉
- ER-VW Series 〉
- EF-S1 〉
ドレンパン漏液検出

課 題
従来の1出力タイプでは、わずかな初期漏液でも装置が停止し、チョコ停につながることがあります。設備の稼働率を維持しながら、異常漏液を検知する必要があります。
ご提案
SQ4なら、初期漏液(警報)と異常漏液(緊急停止)を2段階で検知。生産性と安全性の両立に加え、センサの設置忘れや取り付け不備などの異常も検知できます。
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薬品・廃液の液面検出

課 題
気泡や液だまりの影響を抑えながら、薬品や廃液の液面を安定して検出したい。
ご提案
接液式の液面レベルセンサで安定検出。保護チューブは切断・延長が可能で設置しやすく、フルプロテクト構造により、さまざまな薬液環境で使用できます。
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- FD-HF40Y 〉
- EZ-10 Series 〉



